대기압 플라즈마 - 산화막, 탄화막 제거

대기압 플라즈마 AP시리즈와 고정형, 회전형 헤드

 

 

대기압 플라즈마

깨끗한 압축공기(유수분이 제거된 5Bar 이상의 압축공기 필요 : CDA 99% 이상)를 장비에 공급해야 하며

고압의 전기를 전극에 흘려 보내면 플라즈마 헤드 내부에서 방전현상이 발생하게 됩니다.

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방전현상이 생기면 전자는 상대극으로 빠른 속도로 이동을 하게 되는데,

이때 공기를 구성하는 가스분자들과 방출되는 전자의 충돌로 인하여 플라즈마가 발생하게 됩니다.

초기에 만들어진 플라즈마 파티클에 의하여 챔버내부는 급속도로 확산 현상이 이루어 지며

만들어진 플라즈마는 지속적으로 주입되는 공압에 의하여 노즐부분으로 분사가 되어 빔형태로 분출됩니다.

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주로 친수 표면처리가 필요한 경우 산소 플라즈마의 화하적인 반응효과를 이용하고,

플라즈마의 물리적인 표면처리에는 아르곤 및 질소를 사용하여 플라즈마화 시켜 사용합니다.

특수한 상황에서는 질소가스 100%, 아르곤가스 100%, 포밍가스 (5% H2, 95% N2)를 사용할 수 있으며

이때 수소플라즈마는 금속표면(ex. Cu)의 산화막을 제거하는데 아주 유용합니다.

 

플라즈마 처리 전(좌), 후(우)

 

산화막 제거(Oxide removal)

포밍가스를 사용 시 금속 위의 산화막을 제거하여

안정적인 솔더링 환경을 제공하고 유통기한이 지난

제품도 재사용할 수 있게 합니다.

또한 솔더의 젖음성 향상에도 도움을 줍니다.

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- 리드 프레임 표면-

- DBC 와 히트싱크(Heat-sink) 표면-

 

탄화막 제거 전(좌), 후(우)

 

특수 개발된 노즐을 사용하여 사출, 성형 등의 금형내 산화막 제거 및 불순물 제거에 사용이 가능

 

금형에 부착된 수지와 가스의 오염을 제거하려면 용제와 초음파, 브러시, 쇼트블래스트와 클리닝 시트 등이 있지만,

화학 처리와 기계적 연마는 값비싼 금형을 손상시킬 수 있습니다

 

또한, 무거운 금형을 탈착하는 등 번거롭지만 대기압 플라즈마 세척은 성형기에 금형이 장착된 상태에서도

세정이 가능하여 생산성 향상이나 품질 유지에 기여할 수 있습니다

 

 

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