진공 플라즈마AETP의 마이크로웨이브(2.45Ghz) 진공 플라즈마 장비는 일반 RF(13.56Mhz) 진공 플라즈마 장비에 비하여 발생되는 플라즈마 파티클의 밀도가 높고 형성된 플라즈마 파티클들의 등방성이 우수하여 챔버내 쉐도우 현상이 극히 적어 RF와 같은 안테나 역할의 파트가 필요하지 않습니다. 또한 플라즈마표면처리 시 제품의 온도상승이 극히 미비한 것 또한 큰 장점입니다. 저희 AETP의 진공 플라즈마 장비는 고객의 요구 사항에 따라 RF소스, 턴테이블, 로터리 드럼, 가열판, 추가 MFC 등의 다양한 옵션을 선택하실 수 있습니다. 일반적인 표면처리 공정 (유기물 표면 활성화, 무기물 표면 세정)을 위해 별도의 가스를 사용하지 않고 깨끗한 압축공기를 사용하여 진공 플라즈마 처리를 할 수 있도록 기..
