AETP의 마이크로웨이브(2.45Ghz) 진공 플라즈마 장비는
일반 RF(13.56Mhz) 진공 플라즈마 장비에 비하여 발생되는 플라즈마 파티클의 밀도가 높고 형성된 플라즈마 파티클들의
등방성이 우수하여 챔버내 쉐도우 현상이 극히 적으며 RF와 같은 안테나 역할의 파트가 필요하지 않습니다.
또한 플라즈마표면처리 시 제품의 온도상승이 극히 미비한 것 또한 큰 장점입니다.
저희 AETP의 진공 플라즈마 장비는 고객의 요구 사항에 따라
RF소스, 턴테이블, 로터리 드럼, 가열판, 추가 MFC 등의 다양한 옵션을 선택하실 수 있습니다.
일반적인 표면처리 공정 (유기물 표면 활성화, 무기물 표면 세정)을 위해 별도의 가스를 사용하지 않고
깨끗한 압축공기를 사용하여 진공 플라즈마 처리를 할 수 있도록 기본 MFC가 제공되며
큰 챔버 사이즈와 함께 실용적인 가격에 판매중입니다.
진공 상태에서는 대기압에 비하여 상대적으로 낮은 에너지로 플라즈마 상태를 만들 수 있어
플라즈마 형성을 위해 진공타입의 챔버를 사용한 장비가 널리 사용 되고 있습니다.
1차로 챔버 내부를 펌프를 이용하여 진공을 만들고 목표 진공도에 도달 한 후, 2차로 운용 가스를 챔버 내부에 넣어줍니다.
지속적인 펌핑과 운용가스의 주입으로 챔버 내부에 안정적인 미압이 형성되는데
이를 공정압력(process pressure)라고 하며
이때 RF(radio frequency) 13.56Mhz 또는 마이크로웨이브(microwave) 2.45Ghz 주파수를
챔버 내에 인가하여 운용 가스를 플라즈마화 합니다.
플라즈마화된 전자와 이온은 확산운동을 통해 챔버내 전체를 플라즈마 상태로 유지시켜 주며
가스의 양과 파장의 세기, 운용 시간에 따라 처리 결과는 달라집니다.
마이크로웨이브는 파장이 더 짧아 RF에 비하여 더 높은 밀도의 플라즈마를 형성 할 수 있고
등방성이 우수하여 고도의 작업을 낮은 온도에서 수행하는데 장점이 있습니다.
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